Holika Holika
Holika Holika Daily Fresh Bamboo Cleansing Foam
Foam is an effective tool for cleansing the skin, removes everyday dirt, traces of makeup. Gives the skin smoothness, softness and freshness, does not clog pores. Suitable for combination, oily and problematic skin types
2
Bene
20
Neutro
0
Cautela
0
Evitare
9% bene
91% neutro
0% cautela
0% evitare
Lista degli ingredienti — Holika Holika Daily Fresh Bamboo Cleansing Foam
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Water
Aqua
solvente
→
Stearic Acid
Glycerin
Glycerol
denaturante condizionamento dei capelli umettante igiene orale profumare condizionamento della pelle protezione della pelle solvente additivo reologico
→
Lauric Acid
pulizia emulsionare tensioattivi
→
Potassium Hydroxide
buffering
→
Myristic Acid
pulizia emulsionare profumare
→
Glyceryl Stearate
emolliente emulsionare
→
PEG-100 Stearate
tensioattivi
→
Cocamidopropyl Betaine
antistatico pulizia schiuma aumentando condizionamento dei capelli tensioattivi additivo reologico
→
PEG-8
umettante solvente
→
Polyquaternium-7
antistatico formazione di film
→
Polysorbate 20
emulsionare tensioattivi
→
Hydroxyethylcellulose
HEC
vincolante emulsione stabilizzante formazione di film stabilizzare additivo reologico
→
Sodium Chloride
Salt
bulking mascherare igiene orale additivo reologico
→
Bambusa Vulgaris Leaf/Stem Extract
Bamboo Leaf/Stem Extract
umettante igiene orale
→
Saponaria Officinalis Leaf Extract
antimicrobici pulizia
→
Butylene Glycol
umettante mascherare condizionamento della pelle solvente additivo reologico
→
1,2-Hexanediol
condizionamento della pelle solvente
→
Ci 19140
Tartrazine, Yellow 5
colorante cosmetico
→
Ci 42090
Blue 1
colorante cosmetico
→
Phenoxyethanol
conservante
→
Parfum/Fragrance
Fragrance, Parfum
Состав
Water, Stearic Acid, Glycerin, Lauric Acid, Potassium Hydroxide, Myristic Acid, Glyceryl Stearate, PEG-100 Stearate, Cocamidopropyl Betaine, PEG-8, Polyquaternium-7, Polysorbate 20, Hydroxyethylcellulose, Sodium Chloride, Bambusa Vulgaris Leaf/Stem Extract, Saponaria Officinalis Leaf Extract, Butylene Glycol, 1,2-Hexanediol, Ci 19140, Ci 42090, Phenoxyethanol, Parfum/Fragrance
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