Helia-D
Helia-D Officina Youth Concept Peeling Solution
Gentle chemical exfoliator with 10% glycolic acid and 1% mandelic acid.
7
Bien
5
Neutre
0
Mise en garde
0
Éviter
58% bien
42% neutre
0% mise en garde
0% éviter
Liste des ingrédients — Helia-D Officina Youth Concept Peeling Solution
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Water
Aqua
solvant
→
Propanediol
Zemea
Glycolic Acid
mise en mémoire tampon
→
Pentylene Glycol
conditionnement de la peau solvant
→
Glycerin
Glycerol
dénaturant conditionnement des cheveux humectant soins bucco-dentaires parfumage conditionnement de la peau protection de la peau solvant contrôle de la viscosité
→
Methyl Gluceth-20
humectant hydratant
→
Sodium Hydroxide
lye
mise en mémoire tampon dénaturant
→
Mandelic Acid
antimicrobien
→
Sodium PCA
Sodium Pyrrolidone Carboxylic Acid
antistatique conditionnement des cheveux humectant conditionnement de la peau
→
Phenoxyethanol
conservateur
→
Biosaccharide Gum-1
conditionnement de la peau
→
Panthenol
Pro-Vitamin B5
antistatique conditionnement des cheveux conditionnement de la peau
→
Состав
Water, Propanediol, Glycolic Acid, Pentylene Glycol, Glycerin, Methyl Gluceth-20, Sodium Hydroxide, Mandelic Acid, Sodium PCA, Phenoxyethanol, Biosaccharide Gum-1, Panthenol
Glycolic Acid
mise en mémoire tampon
→
Glycerin
Glycerol
dénaturant conditionnement des cheveux humectant soins bucco-dentaires parfumage conditionnement de la peau protection de la peau solvant contrôle de la viscosité
→
Mandelic Acid
antimicrobien
→
Sodium PCA
Sodium Pyrrolidone Carboxylic Acid
antistatique conditionnement des cheveux humectant conditionnement de la peau
→
Biosaccharide Gum-1
conditionnement de la peau
→
Panthenol
Pro-Vitamin B5
antistatique conditionnement des cheveux conditionnement de la peau
→
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