For Beloved One
For Beloved One Advanced Hyaluronic Acid GHK-Cu Moisturizing Lotion
Rare GHK-Cu and copper gluconate accelerate skin repair and restoration while the natural moisturising agent squalane minimises dryness to reveal a dewy, youthful complexion.
12
Bene
22
Neutro
0
Cautela
0
Evitare
35% bene
65% neutro
0% cautela
0% evitare
Circa il prodotto
- Marchio
- For Beloved One
- Ingrediente
- 34
- Attivo
- 9
- Barre
-
4806518330099 · 200ml
Lista degli ingredienti — For Beloved One Advanced Hyaluronic Acid GHK-Cu Moisturizing Lotion
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Water
Aqua
solvente
→
Triethylhexanoin
condizionamento dei capelli mascherare profumare condizionamento della pelle
→
Butylene Glycol
umettante mascherare condizionamento della pelle solvente additivo reologico
→
Pentylene Glycol
condizionamento della pelle solvente
→
Squalane
emolliente condizionamento dei capelli refatting condizionamento della pelle
→
Exo-H
Alteromonas Ferment Extract
condizionamento della pelle
→
Sodium Hyaluronate
umettante condizionamento della pelle
→
Copper Tripeptide-1
GHK-Cu, Copper Peptide
condizionamento della pelle
→
Copper Gluconate
condizionamento della pelle protezione della pelle
→
Hydrolyzed Hyaluronic Acid
condizionamento dei capelli umettante condizionamento della pelle
→
Glyceryl Stearate
emolliente emulsionare
→
Phenyl Trimethicone
antischiuma condizionamento dei capelli condizionamento della pelle
→
Diglycerin
umettante condizionamento della pelle
→
Stearic Acid
Dimethicone
Pentaerythrityl Distearate
emulsionare
→
Cetearyl Alcohol
emolliente emulsionare emulsione stabilizzante schiuma aumentando opacizzante tensioattivi additivo reologico
→
Methyl Glucose Sesquistearate
emolliente emulsionare condizionamento della pelle
→
Cera Alba
Beeswax
emolliente emulsionare formazione di film profumare
→
Sodium Stearoyl Glutamate
pulizia emulsionare condizionamento dei capelli condizionamento della pelle
→
Chlorphenesin
antimicrobici conservante
→
Ammonium Acryloyldimethyltaurate/VP Copolymer
Aristoflex AVC
additivo reologico
→
Raffinose
condizionamento della pelle
→
Hydroxypropyl Guar
antistatico vincolante emulsione stabilizzante formazione di film tensioattivi additivo reologico
→
Tocopherol
Vitamin E
antiossidante mascherare condizionamento della pelle
→
Dipotassium Glycyrrhizate
Licorice
umettante condizionamento della pelle
→
Allantoin
condizionamento della pelle protezione della pelle calmante
→
Disodium EDTA
chelante additivo reologico
→
Polyglutamic Acid
condizionamento della pelle
→
Alpinia Galanga Rhizome Extract
condizionamento della pelle
→
Xanthan Gum
vincolante emulsionare emulsione stabilizzante formazione del gel condizionamento della pelle tensioattivi additivo reologico
→
Caprylic/Capric Triglyceride
mascherare profumare condizionamento della pelle
→
Parfum/Fragrance
Fragrance, Parfum
Состав
Water, Triethylhexanoin, Butylene Glycol, Pentylene Glycol, Squalane, Exo-H, Alteromonas Ferment Extract, Sodium Hyaluronate, Copper Tripeptide-1, Copper Gluconate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Glyceryl Stearate, Phenyl Trimethicone, Diglycerin, Stearic Acid, Dimethicone, Pentaerythrityl Distearate, Cetearyl Alcohol, Methyl Glucose Sesquistearate, Cera Alba, Sodium Stearoyl Glutamate, Chlorphenesin, Ammonium Acryloyldimethyltaurate/VP Copolymer, Raffinose, Hydroxypropyl Guar, Tocopherol, Dipotassium Glycyrrhizate, Allantoin, Disodium EDTA, Polyglutamic Acid, Alpinia Galanga Rhizome Extract, Xanthan Gum, Caprylic/Capric Triglyceride, Parfum/Fragrance
Squalane
emolliente condizionamento dei capelli refatting condizionamento della pelle
→
Alteromonas Ferment Extract
condizionamento della pelle
→
Sodium Hyaluronate
umettante condizionamento della pelle
→
Copper Tripeptide-1
GHK-Cu, Copper Peptide
condizionamento della pelle
→
Copper Gluconate
condizionamento della pelle protezione della pelle
→
Diglycerin
umettante condizionamento della pelle
→
Tocopherol
Vitamin E
antiossidante mascherare condizionamento della pelle
→
Dipotassium Glycyrrhizate
Licorice
umettante condizionamento della pelle
→
Allantoin
condizionamento della pelle protezione della pelle calmante
→
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