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SUNdance

SUNdance Kids Sensitiv Sonnencreme Lsf 50

SPF 50 sensitive sunscreen cream for children. Fragrance-free, octocrylene-free, waterproof.
10
Bene
31
Neutro
0
Cautela
0
Evitare
24% bene 76% neutro 0% cautela 0% evitare
SUNdance Kids Sensitiv Sonnencreme Lsf 50

Circa il prodotto

Marchio
SUNdance
Ingrediente
41
Attivo
12

Lista degli ingredienti — SUNdance Kids Sensitiv Sonnencreme Lsf 50

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Water
Aqua
solvente
Glycerin
Glycerol
denaturante condizionamento dei capelli umettante igiene orale profumare condizionamento della pelle protezione della pelle solvente additivo reologico
Ethylhexyl Salicylate
Octyl Salicylate, Octisalate
assorbitore uv filtro uv
C12-15 Alkyl Benzoate
antimicrobici emolliente condizionamento della pelle
Diethylamino Hydroxybenzoyl Hexyl Benzoate
Uvinul A Plus, DHHB
filtro uv
Titanium Dioxide
colorante cosmetico opacizzante assorbitore uv filtro uv
Dibutyl Adipate
emolliente formazione di film plastificante condizionamento della pelle solvente
Coco-Caprylate
emolliente
Tapioca Starch
additivo reologico
Diethylhexyl Butamido Triazone
Iscotrizinol, Uvasorb HEB
assorbitore uv filtro uv
Phenylbenzimidazole Sulfonic Acid
Ensulizole
assorbitore uv filtro uv
Tocopheryl Acetate
Vitamin E Acetate
antiossidante condizionamento della pelle
Triacontanyl Pvp
formazione di film umettante additivo reologico
Caprylyl Glycol
deodorante emolliente condizionamento dei capelli condizionamento della pelle
Silica
abrasivo assorbente anticaking bulking opacizzante additivo reologico
VP/Hexadecene Copolymer
vincolante formazione di film fissaggio dei capelli additivo reologico
Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer
emulsione stabilizzante formazione di film additivo reologico
Sodium Hydroxide
lye
buffering denaturante
Carnosine
condizionamento della pelle
Decylene Glycol
condizionamento della pelle
Xanthan Gum
vincolante emulsionare emulsione stabilizzante formazione del gel condizionamento della pelle tensioattivi additivo reologico
Dimethicone
Caprylhydroxamic Acid
chelante
Disodium EDTA
chelante additivo reologico
Citric Acid
buffering chelante mascherare
Tocopherol
Vitamin E
antiossidante mascherare condizionamento della pelle
Helianthus Annuus Seed Oil
Sunflower Oil
emolliente mascherare condizionamento della pelle
Ethylhexyl Triazone
Uvinul T 150, Octyltriazone
assorbitore uv filtro uv
Bis-Diglyceryl Polyacyladipate-2
emolliente condizionamento della pelle
Propylheptyl Caprylate
emolliente
Potassium Cetyl Phosphate
emulsionare tensioattivi
Bis-Ethylhexyloxyphenol Methoxyphenyl Triazine
Tinosorb S, Bemotrizinol
condizionamento della pelle assorbitore uv filtro uv
Oryza Sativa Bran Wax
condizionamento della pelle
Hydrogenated Palm Glycerides
emolliente emulsionare condizionamento della pelle additivo reologico
Hydroxyacetophenone
antiossidante
Microcrystalline Cellulose
assorbente anticaking bulking emulsione stabilizzante opacizzante stabilizzare additivo reologico
Potassium Hydroxide
buffering
Succinoglycan
condizionamento della pelle
Tetrasodium Iminodisuccinate
chelante
Galactoarabinan
formazione di film
Cellulose Gum
Carboxymethyl Cellulose
vincolante emulsione stabilizzante formazione di film mascherare additivo reologico
Состав

Water, Glycerin, Ethylhexyl Salicylate, C12-15 Alkyl Benzoate, Diethylamino Hydroxybenzoyl Hexyl Benzoate, Titanium Dioxide, Dibutyl Adipate, Coco-Caprylate, Tapioca Starch, Diethylhexyl Butamido Triazone, Phenylbenzimidazole Sulfonic Acid, Tocopheryl Acetate, Triacontanyl Pvp, Caprylyl Glycol, Silica, VP/Hexadecene Copolymer, Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, Sodium Hydroxide, Carnosine, Decylene Glycol, Xanthan Gum, Dimethicone, Caprylhydroxamic Acid, Disodium EDTA, Citric Acid, Tocopherol, Helianthus Annuus Seed Oil, Ethylhexyl Triazone, Bis-Diglyceryl Polyacyladipate-2, Propylheptyl Caprylate, Potassium Cetyl Phosphate, Bis-Ethylhexyloxyphenol Methoxyphenyl Triazine, Oryza Sativa Bran Wax, Hydrogenated Palm Glycerides, Hydroxyacetophenone, Microcrystalline Cellulose, Potassium Hydroxide, Succinoglycan, Tetrasodium Iminodisuccinate, Galactoarabinan, Cellulose Gum

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